Специалисты Научно-технологического центра уникального приборостроения (НТЦ УП) РАН и Института ядерной физики имени Г. И. Будкера Сибирского отделения РАН разработали новую технику измерения оптической толщины тонких пленок и покрытий, что позволит быстрее и тщательнее изучать их свойства и совершенствовать процесс изготовления. При изготовлении диэлектрических пленок необходимо контролировать их толщину, даже на атомарном уровне. Это позволяет управлять их оптическими свойствами (прозрачность, цвет, блеск). Измерять толщину и оптические константы (коэффициенты преломления и поглощения) даже очень тонких пленок (с толщиной менее 10 нм) помогает метод поверхностного плазмонного резонанса (ППР) — явления перехода энергии света из объемной электромагнитной волны в поверхностную на границе металла и диэлектрика (материала, слабо проводящего электрический ток).